簡介
全息照相是利用相干光疊加而發生干涉的原理，記錄參考光波與原物光波（從物體反射的光波）在記錄介質上的干涉條紋。這種干涉條紋記錄了物光波的振幅信息、位相信息。
本實驗采用光致聚合物干版作為記錄介質，半導體激光器作為光源，可以做反射式和透射式全息圖，反射式全息圖（可以白光再現）。明室環境下即可成功操作，不需要配備專門的暗室。沖洗非常方便，經電吹風快速吹干水分，即可在白光下現出清晰的三維圖像，易維護，尤其適合教學實驗。
特點
明室操作，白光再現；
光致聚合物干版，彩虹全息；
沖洗方便，快速顯影；
40mW半導體激光器；
電子式曝光定時器，數字顯示，遙控、手動隨意選擇。
全息照相是利用相干光疊加而發生干涉的原理，記錄參考光波與原物光波（從物體反射的光波）在記錄介質上的干涉條紋。這種干涉條紋記錄了物光波的振幅信息、位相信息。
本實驗采用光致聚合物干版作為記錄介質，半導體激光器作為光源，可以做反射式和透射式全息圖，反射式全息圖（可以白光再現）。明室環境下即可成功操作，不需要配備專門的暗室。沖洗非常方便，經電吹風快速吹干水分，即可在白光下現出清晰的三維圖像，易維護，尤其適合教學實驗。
特點
明室操作，白光再現；
光致聚合物干版，彩虹全息；
沖洗方便，快速顯影；
40mW半導體激光器；
電子式曝光定時器，數字顯示，遙控、手動隨意選擇。
可開實驗
1. 反射式全息照相
2. 透射式全息照相
技術參數
半導體激光器：650nm、帶寬<0.2nm、功率>30mW
曝光定時器：0.1-999.9s，B門、T門、定時、常開四種模式選擇
全息干板：紅敏光致聚合物干版
光學平臺（選配）：平面粗糙度≤0.8μm，平面度≤0.05mm/m2，600×600×60mm
成套性
半導體激光器、曝光定時器、反射鏡組件、透鏡組件、全息干板，全息照相物體、光學平臺（選配）等
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