日本hutech半導體、電子零件真空干燥機
真空干燥機VACUUM DRY OVEN
應用
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特色特色
 | 溫度 | 醉高180℃ |
 | 真空度 | 大氣壓?3.75×10 -2托 |
 | 真空干燥機控制器 | 醉新開發的用于真空控制的控制器和記錄器 |
 | 雙腔結構 | 通過分別安裝和控制內部儲氣罐以及每個儲氣罐的加熱器和風扇，保持快速的升溫和固定的溫度分布 |
 | 采用雙層包裝 | 采用雙層包裝以提高真空度 |
 | 溶劑回收系統 | 收集干燥過程中產生的水和NMP氣體等化學物質（化學物質，細顆粒）的冷阱和過濾器，從而延長真空泵的使用壽命。 |
 | 冷卻系統 | 冷卻風扇使用強制循環方法可以在3小時內將溫度從120℃升高到60℃。 |
 | 程序模式控制 | 以所需模式對溫度，真空度和Pergr，排氣進行程序控制 （40個模式/ 1200步） |
 | 容易檢查 | 采用干式真空泵（無油）和線圈加熱器，易于維護和維修 |
 | 自動/手動操作 | 可以進行真空啟動，釋放真空，排氣的AUTO / MAN操作，并且在破壞真空或釋放大氣壓時可以選擇N2和AIR。 |
 | 12路錄音 | 溫度1CH，真空度1CH，分布圖10CH記錄 |
 | 簡單的界面 | 觸摸屏控制器易于控制操作 |
模式控制
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新開發的控制裝置
■溫度和真空顯示類型的控制器使創建程序變得容易，并允許自由模式操作。 此外，通過采用的數字記錄器，可以與控制器進行聯鎖操作并進行全區域記錄。 |
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雙重包裝結構
■內箱門采用雙層填料，以提高附著力，從而獲得理想的真空度。 |
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雙室結構系統
■通過改善溫度分布并采用溶劑回收系統來延長設備的使用壽命。 |
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產品規格
| 排序 | 詳細項目 | 8雜志 | 16雜志 |
|---|---|---|---|
| 烤箱容量 | 700升 | 1960升 | |
| 加熱器容量 | 18千瓦 | 33千瓦 | |
| 溫度 | 控制范圍 | RY-180℃ | |
| 設定寬度 | 0.1℃ | ||
| 分配 | ±2.0℃ | ||
| 上升穩定時間 | RT-120℃：60分鐘 | ||
| 下降時間 | 3小時 | ||
| 真空 | 控制范圍 | 10-3.75×10 -2托 | |
| 設定寬度 | 0.001托 | ||
| 時間穩定 | 半小時 | ||
| 施工 | 方法 | 雙室控制 | |
| 內膽 | 利用強制空氣循環法利用對流熱 | ||
| 外箱 | 通過空調循環方式利用輻射熱 | ||
| 冷卻 | 冷卻風扇強制循環方式 | ||
| 操作 | 控制者 | 觸摸屏類型2通道（僅適用于溫度和真空） | |
| 錄音機 | 觸摸屏類型12通道（僅適用于溫度和真空） | ||
| 模式 | 自動/手動（溫度，真空，吹掃，排氣） | ||
| 安全裝置 | 水分和溶劑 | 過濾器，冷阱 | |
| 安全裝置 | 防止過熱（電子，機械），真空上升檢測 | ||
| 防止鼓風機和冰箱過載，防止真空泵和增壓器過載，其他斷路器 | |||
| 注意 | 蜂鳴器，警告燈，歷史記錄 | ||
| 維修保養 | 真空泵 | DryType（易于附著/分離） | |
| 加熱器 | 線圈加熱器（易于安裝/拆卸） | ||
| 保證 | 3年，初始流程管理系統 | ||
| 設備尺寸 | 內膽 | 750（寬）x 880（深）x 1060（高） | 1600（寬）x 1020（深）x 1200（高） |
| 外箱 | 1330（寬）x 1840（深）x 1830（高） | 2230（寬）x 2070（深）x 2100（高） | |
| 電源 | 三相200V / 220VAC / 50 / 60Hz / 21KVA | 三相200V / 220VAC / 50 / 60Hz / 21KVA | |
日本hutech半導體、電子零件真空干燥機
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