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　　ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展*并配備了新的光學系統和功能，可根據觀察方法和目的選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應用需求。

　　ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。

　　金相顯微鏡特點：

　　1.采用世界上優秀的無限遠雙重色彩校正及反差增強型（ICCS）光學系統，為用戶提供銳利的圖像。

　　2.采用5種上部部件和3種下部部件及兩個立柱組合方式，可根據您對材料檢測的要求和經濟成本進行任意靈活的組合，可實現對透明材料、不透明材料以及熒光材料的分析，同時具有*的升級空間，保證您未來的檢測要求。

　　3.業界大式樣高度可達到380毫米的，給您提供非凡的操作空間。

　　4. 貼近用戶的靈活性，設備的部件升級無需專業人員，用戶可自行操作完成。