| 技術(shù)參數(shù)
• CCD系統(tǒng)：高速、高分辨和高靈敏度 • 光學(xué)系統(tǒng)：RHEED定量分析及成像分析 • 標(biāo)準(zhǔn)接口法蘭 | ||
| 主要特點(diǎn)
• 圖像分析：?jiǎn)我粓D像分析（靜態(tài)分析）模式，用戶選擇多圖像模式，聚焦模式（實(shí)時(shí)剖面、表面區(qū)域形貌、表面等高分析），掃描模式，錄像模式，交互圖像疊加模式，2D和3D圖像分析； • 多個(gè)衍射特性實(shí)時(shí)顯示分析，在沉積、退火等過程中； • 實(shí)時(shí)薄膜沉積速率，精度達(dá)0.05% • 可擴(kuò)展：Phase Locked Epitaxy (PLE), LEED, Auger/XPS,電子槍控制和搖擺曲線掃描； | ||
的RHEED分析系統(tǒng)(反射高能電子衍射能譜儀分析系統(tǒng))，適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)（如：脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統(tǒng)結(jié)合優(yōu)質(zhì)的硬件和功能*的軟件為客戶提供zui廣泛的RHEED分析信息。 | ||
RHEED分析系統(tǒng)
產(chǎn)品二維碼| 參 考 價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 產(chǎn)品型號(hào)：
- 品牌：
- 產(chǎn)品類別：天平
- 所在地：
產(chǎn)品標(biāo)簽:
所有評(píng)論僅代表網(wǎng)友意見，與本站立場(chǎng)無關(guān)。