TMC784系列研究等級(jí)光學(xué)平臺(tái)

研究等級(jí)的 CleanTop 在光學(xué)平臺(tái)性能上是工業(yè)中的。它具有TMC*的CleanTop設(shè)計(jì)：小的核心尺寸，高的核心密度設(shè)計(jì)，全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級(jí)結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級(jí)的CleanTop在要求很嚴(yán)苛的領(lǐng)域如干涉儀、全息術(shù)，和超快激光技術(shù)，以及嚴(yán)重的地板振動(dòng)環(huán)境中都被使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺(tái)振動(dòng)消除系統(tǒng)和此平臺(tái)結(jié)合使用，可以形成好的整體振動(dòng)控制。

TMC784系列研究等級(jí)光學(xué)平臺(tái)特點(diǎn)：

   1、結(jié)構(gòu)阻尼---研究等級(jí)

   2、CleanTop獨(dú)立尼龍杯，每一個(gè)螺紋孔下面都是密封的（25mm）

一般技術(shù)要求：

   核心：鋼制蜂窩封閉孔，0.010英寸厚的鋁箔
   核心剪切模量：275000 psi
   核心單元尺寸：< 0.5 in.²
   核心密度：13.3磅/發(fā)生(230公斤/立方米)
   平面度：0.005英寸。(0.13毫米)
   桌面表層：430系列鐵磁不銹鋼，3/16英寸厚(5毫米)
   側(cè)壁：阻尼成型槽鋼，乙烯基覆蓋

   螺紋孔：25毫米長(zhǎng)CleanTop尼龍杯

角順應(yīng)性數(shù)據(jù)測(cè)量了平臺(tái)在響應(yīng)校準(zhǔn)錘的沖擊時(shí)所產(chǎn)生的位移。順應(yīng)性是在48in x 96in x 12in的平臺(tái)上測(cè)量的。