型號:TH-1000
同系列產品技術參數:
| 型號 | 流量 | 儀器特點 |
| DH-300 | 0-300ml/min | 全自動控制,不存儲氫氣,有水位、超壓的安全裝置,純度99.99999% |
| DH-500 | 0-500ml/min | |
| TH-300 | 0-300ml/min | 采用的離子膜制氫技術,無需加堿,直接電解純水(去離子水、二次蒸餾水),優點:不污染色譜的任何部件。純度:優于99.999%,壓力:0-0.4MPa |
| TH-500 | 0-500ml/min | |
| TH-1000 | 0-1000ml/min | |
| SPH-200 | 0-200ml/min | 體積小,重量輕,單過濾,壓力0.3MPa,自動防返堿,純度99.999% |
| SPH-300A | 0-300ml/min | 單不銹鋼過濾器,壓力0.4MPa,自動防返堿,純度99.999% |
| SPH-300 | 0-300ml/min | 兩不銹鋼過濾器,內有微量氧脫除劑(不需活化),純度更高,壓力0-0.4MPa,0-0.6MPa兩檔可調,自動防返堿,純度99.999% |
| SPH-500A | 0-500ml/min | 單不銹鋼過濾器,壓力0.4MPa,自動防返堿,純度99.999% |
| SPH-500 | 0-500ml/min | 兩不銹鋼過濾器,內有微量氧脫除劑(不需活化),純度更高,壓力0-0.4MPa,0-0.6MPa兩擋可調,自動防返堿,純度99.999% |
| GCD-1000 | 0-1000ml/min | 大流量,可同時帶多臺色譜,自動防返堿,純度99.999% |
| GCD-3000 | 0-3000ml/min | 安全可靠,自動流量跟蹤,用于中心實驗室集中供氫,可用于石化、半導體等行業 |
| GCD-6000 | 0-6000ml/min | 安全可靠,自動流量跟蹤,用于中心實驗室集中供氫,可用于石化、半導體等行業 |
| GCD-9000 | 0-9000ml/min | 安全可靠,自動流量跟蹤,用于中心實驗室集中供氫,可用于石化、半導體等行業 |













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