高純金屬鋁顆粒 33mm電子束蒸鍍芯片鍍膜專(zhuān)用鋁粒 蒂姆新材料
| Co-F3501 | 電解鈷 片狀 | 99.95% 1-10mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Co-I3504 | 電積鈷 塊狀 | 99.95% 40405mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Co-G3533 | 鈷 顆粒 | 99.95% φ33mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| W-G3536 | 鎢 顆粒 | 99.95% φ36mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Ta-G3533 | 鉭 顆粒 | 99.95% φ33mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Nb-G3533 | 鈮 顆粒 | 99.95% φ33mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Mo-G3533 | 鉬 顆粒 | 99.95% φ33mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Si-I5011 | 多晶硅 塊狀 | 99.999% 不規(guī)則塊狀 | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| In-G4501 | 銦 顆粒 | 99.995% 1-3mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Zr-I2402 | 海綿鋯 塊狀 | 99.4% 3-25mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Hf-I2402 | 海綿鉿 塊狀 | 99.4% 3-25mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| Ge-G5006 | 鍺 顆粒 | 99.999% 3-5mm | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
| La-I3011 | 鑭 塊狀 | 99.9% 不規(guī)則塊狀 | 蒂姆新材料 | 真空熔煉 |
一，物理性質(zhì)
化學(xué)符號(hào)：Al 外 觀：銀白色
原 子 量：26.98154 a
蒸發(fā)溫度：1220℃
密 度：2.7g/cm3
熔 點(diǎn)：660℃
沸 點(diǎn)：2467℃
汽化溫度：1082℃
電 阻 率/μΩ?cm:2.66
電阻溫度系數(shù)/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于：，堿類(lèi)
蒸發(fā)方式：鎢絲或鉬舟
蒸發(fā)源材料（絲、片）:W
坩 堝:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能：鋁膜從紫外區(qū)到紅外區(qū)具有平坦而且很高的反射率，鋁膜對(duì)基地的附著力比較強(qiáng)，由于鋁膜表面總是存在著一層透明的Al2O3薄膜的保護(hù)，所以鋁膜的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性都比較好。通常真 空蒸發(fā)制備的鋁膜呈銀灰色，但有時(shí)也呈黑色。蒸發(fā)源，基地為氧化硅薄膜（100nm厚），蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好；加工性能好，可加工成任意形狀；
應(yīng) 用：保護(hù)膜，反射膜，增透膜
用 途：超純鋁用于制造光電子存儲(chǔ)媒體；作為集成電路的配線；
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