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真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是的一項技術。但是真空鍍膜設備在使用一段時間后，表面會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。
薄膜均勻性概念
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也是說要實現10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
2、晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩態狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。
3、化學組分上的均勻性： 是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
多功能磁控濺射鍍膜系統主要用途：用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜
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