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nanoArch 240系列基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PµSL）構(gòu)建。摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度，使打印速度提升10倍以上；
能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹脂，從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)、功能更強(qiáng)大的零部件；

打印材料

通用型：丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等、工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等

個(gè)性化：高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物科研樹脂等

系統(tǒng)特點(diǎn)

• 的供料系統(tǒng)和涂層技術(shù)

• 具有微尺度多材料的打印能力

• 光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動(dòng)對(duì)焦功能

• 配置光學(xué)平臺(tái)，提高打印質(zhì)量

• 優(yōu)良的光源穩(wěn)定性

• 配備完善的樣品后處理組件，包括抽真空及紫外后固化