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nanoArch P150采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術(shù)。該技術(shù)使用高紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹(shù)脂槽液面，在液面固化樹(shù)脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一。

： 光學(xué)精度高達(dá)25微米;

微尺度打印能力；

優(yōu)良的光源穩(wěn)定性。

低層厚：10-50微米的打印層厚；

可支持12款打印材料；

打印材料

通用型：硬性光敏樹(shù)脂；

個(gè)性化：405 nm固化波段的光敏樹(shù)脂材料 ，支持韌性樹(shù)脂、PEGDA、樹(shù)脂、生物科研樹(shù)脂、柔性樹(shù)脂、水凝膠、透明樹(shù)脂、低收縮樹(shù)脂、二氧化硅摻雜樹(shù)脂、二氧化錯(cuò)摻雜樹(shù)脂等其他功能樹(shù)脂等。

系統(tǒng)特點(diǎn)

• 的供料系統(tǒng)和涂層技術(shù)

• 具有微尺度多材料的打印能力

• 光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動(dòng)對(duì)焦功能

• 配置光學(xué)平臺(tái)，提高打印質(zhì)量

• 優(yōu)良的光源穩(wěn)定性

• 配備完善的樣品后處理組件，包括抽真空及紫外后固化