nanoArch 240系列基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術(PµSL)構建。摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術,這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用,使用滾刀快速涂層技術大大降低每層打印的時間,并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。
的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度,使打印速度提升10倍以上;
能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂,從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件;
打印材料
通用型:丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等、工業級復合聚合物,例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等
個性化:高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物科研樹脂等
系統特點
的供料系統和涂層技術
具有微尺度多材料的打印能力
光學監控系統,自動對焦功能
配置光學平臺,提高打印質量
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件,包括抽真空及紫外后固化
















所有評論僅代表網友意見,與本站立場無關。