nanoArch P150采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術。該技術使用高紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認為是目前有前景的微納加工技術之一。

： 光學精度高達25微米;

微尺度打印能力；

優(yōu)良的光源穩(wěn)定性。

低層厚：10-50微米的打印層厚；

可支持12款打印材料；

打印材料

通用型：硬性光敏樹脂；

個性化：405 nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持韌性樹脂、PEGDA、樹脂、生物科研樹脂、柔性樹脂、水凝膠、透明樹脂、低收縮樹脂、二氧化硅摻雜樹脂、二氧化錯摻雜樹脂等其他功能樹脂等。

系統(tǒng)特點

• 的供料系統(tǒng)和涂層技術

• 具有微尺度多材料的打印能力

• 光學監(jiān)控系統(tǒng)，自動對焦功能

• 配置光學平臺，提高打印質量

• 優(yōu)良的光源穩(wěn)定性

• 配備*的樣品后處理組件，包括抽真空及紫外后固化