nanoArch P150采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術。該技術使用高紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型、打印精度高等突出優勢，被認為是目前有前景的微納加工技術之一。
： 光學精度高達25微米;
微尺度打印能力；
優良的光源穩定性。
低層厚：10-50微米的打印層厚；
可支持12款打印材料；
打印材料
通用型：硬性光敏樹脂；
個性化：405 nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持韌性樹脂、PEGDA、樹脂、生物科研樹脂、柔性樹脂、水凝膠、透明樹脂、低收縮樹脂、二氧化硅摻雜樹脂、二氧化錯摻雜樹脂等其他功能樹脂等。
系統特點
的供料系統和涂層技術
具有微尺度多材料的打印能力
光學監控系統，自動對焦功能
配置光學平臺，提高打印質量
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件，包括抽真空及紫外后固化
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