Spark 8000 全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣 CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) 作為檢測器, CMOS檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長期穩(wěn)定性更高;每個(gè) 像素自帶放大器,可對特殊元素進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)整,增加儀器的準(zhǔn)確度,降低分 析限,實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng),儀器性能更穩(wěn)定,服務(wù) 期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉(zhuǎn)同一元素不同譜線 間實(shí)現(xiàn)無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確,可 以在用戶現(xiàn)場任意增加材料基體和分析元素而無需增加硬件,維護(hù)保養(yǎng)方便。 能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸, 速度快,通用性更強(qiáng)。
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及 其合金的樣品分析。
技術(shù)優(yōu)勢:
1、檢測器靈敏度行業(yè)
高靈敏度CMOS 檢測器
像素?cái)?shù):4096,全行業(yè)
像素尺寸: 7μm,全行業(yè)最小
精薄鍍膜,紫外波段檢出限更低,可做低含量,線性度好,圖像滯后小
工作頻率范圍寬,可在1~10MHz下工作
2、萬級(jí)超凈環(huán)境下打造光學(xué)系統(tǒng)
帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng),無像差,分辨率均勻
高發(fā)光全息光柵,光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm,全行業(yè)
線分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
譜線范圍:130-800nm(可分析 N、Li、 Na、K 等元素)
3、智能控制系統(tǒng),再啟動(dòng)耗時(shí)行業(yè)
潮汐式?jīng)_洗方式,冷機(jī)(關(guān)機(jī)12小時(shí))啟動(dòng)只需 30min,熱機(jī)啟動(dòng)時(shí)間 5min
智能判斷分析間隔時(shí)間,合理補(bǔ)充氬氣,降低氬氣消耗60ml/min 超低待機(jī)流量,一瓶氬氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天
4、分片式曝光,痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高,檢出限更低
一次激發(fā),分片曝光,同時(shí)采集,同時(shí)回?cái)?shù)
獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時(shí)間
提升痕量元素的強(qiáng)度,降低儀器的 檢出限
隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間,提升儀器的 穩(wěn)定性
儀器特點(diǎn):
1、全固態(tài)數(shù)字火花光源
全固態(tài)數(shù)字火花光源(國家技術(shù) 號(hào) ZL 2010 1 0118150.4)
能量、頻率連續(xù)可調(diào) 頻率可達(dá) 1000Hz
MTBF(平均間相隔時(shí)間)> 5000 小時(shí)
2、同軸自旋式氣路激發(fā)臺(tái)
自旋氣路
增壓式自吹掃 激發(fā)充分
千次激發(fā)無需清理
3、恒溫系統(tǒng)
硅膠加熱片,加熱均勻、穩(wěn)定
高精度溫控系統(tǒng),溫度控制精度 ±0.1℃ 多重保溫措施,隔絕環(huán)境溫度影響,保證光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定
如何選擇控樣?
使用控樣的思想就好比天平的砝碼調(diào)節(jié)。控樣能夠減少曲線漂移,儀器波動(dòng),樣品冶煉和加工工藝等帶來的差異,建議測定樣品時(shí)一定要使用控樣校正。
控樣應(yīng)該是一個(gè)與分析試樣的冶金過程和物理狀態(tài)一致的標(biāo)準(zhǔn)樣品,其各元素含量應(yīng)當(dāng)準(zhǔn)確可靠、成分均勻、外觀無氣孔、沙眼、裂紋等物理缺陷,并且各元素含量應(yīng)位于校準(zhǔn)曲線含量范圍之內(nèi),盡可能與分析樣品的含量接近。《校正標(biāo)樣在光電直讀法中的分析研究和運(yùn)用》(張存貴郝艷峰)一文報(bào)道:通過實(shí)驗(yàn)對比發(fā)現(xiàn),用自己熔煉的校正樣品分析比用市場上采購來的樣品分析準(zhǔn)確性更好,因而建議有實(shí)力的廠家,先是把自己的產(chǎn)品熔煉后重新定值作控樣。














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