PI的X射線相機使用科學級，二維CCD探測陣列。每一個產品都融入了超低噪聲電子電路，多讀出口，多增益等非常優秀的工藝。高速讀出的速度可以方便準直，聚焦，高速采集等操作；低速讀出有利于低噪聲精準的數據采集。 多增益可以在低噪聲的同時提升圖像的信噪比。
我們的X射線相機具備16位的數模轉換電路，工業標準的接口，方便搭建實踐平臺和OEM擴展。
PIXIS-XO 軟X射線相機
適用于紫外，深紫外的X射線相機 高敏感度，熱電制冷的PIXIS-XO相機有多款不同的深耗盡式和背照式CCD芯片，用于直接探測 ~30 eV and ~20 KeV 能量范圍的X射線。 可旋轉型的ConFlat 法蘭的高真空設計，可軟件選擇的增益和讀出速度，使得這款相機非常適合各種高真空的應用。
PIXIS-XO具有以下優點: ? 多樣的芯片選擇（1340 x 100 to 2048 x 2048 pixel arrays; 13 x 13 µm to 20 x 20 µm pixel sizes） ? 可探測范圍 lt;30 eV to ~20 keV ? 可旋轉的CF法蘭接口 ? 靈活的雙讀出放大器 ? 高速USB2.0接口 ? LightField可實現全面的控制 |
產品綜述
探測到更多的X射線光子!
PIXIS-XO相機致力于提供非常高的直接探測性能，廣泛用于X射線譜儀，X射線成像，X射線顯微鏡，X射線等離子診斷，深紫外刻蝕技術。
伴隨著眾多可選的CCD格式，99%覆蓋率，低噪聲電子電路，-70℃ 到 -90℃的熱電制冷等，PIXIS-XO為用戶提供了方便快捷的實驗操作和OEM條件。
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產品特點
可探測范圍 lt;30 eV to ~20 keV 適合各類應用
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高速USB2.0數據接口: 任何電腦直接連接，無需額外硬件 即插即用 真正的16位數據傳輸能力，可達2MHz讀出速度
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可旋轉的CF法蘭盤: 方便準直X射線光路，提高成像和成譜質量。
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靈活的雙讀出放大器: 靈活設置，優化實驗 高敏度ADC提供的讀出噪聲 大容量ADC提供的動態范圍 線性度
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LightField的64-位操作平臺: 直觀易上手的用戶界面設計 自動背景扣除，平場糾正和誤差檢測 PICAM（64）位通用程序語言，方便的程序修改與編譯
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型號規格
PIXIS-XO Direct Detection X-Ray相機型號比較和數據表
Model | Imaging Array | Pixel Size | Sensor Type |
100B | 1340 x 100 | 20 x 20 µm | back-illuminated |
100BR | 1340 x 100 | 20 x 20 µm | back-illuminated, deep-depletion |
400B | 1340 x 400 | 20 x 20 µm | back-illuminated |
400BR | 1340 x 400 | 20 x 20 µm | back-illuminated, deep-depletion |
1024B | 1024 x 1024 | 13 x 13 µm | back-illuminated |
1024BR | 1024 x 1024 | 13 x 13 µm | back-illuminated, deep-depletion |
1300B | 1340 x 1300 | 20 x 20 µm | back-illuminated |
2KB | 2048 x 512 | 13.5 x 13.5 µm | back-illuminated |
2048B | 2048 x 2048 | 13.5 x 13.5 µm | back-illuminated |
Quantum Efficiency of PIXIS-XO direct detection cameras*
*Please refer to datasheets for available CCD types in each model. |
產品應用
X-Ray Plasma Diagnostics Hot and dense plasmas are of enormous interest in basic physics research because of the multitude of interesting phenomena that arise from them.
Soft X-Ray Microscopy Soft X-ray Microscopy is used for imaging and researching the elemental composition and structure of biological samples and more.
EUV Lithography EUV lithography is gaining popularity because it retains the look and feel of the traditional optical lithography process (i.e utilizes the 13.5 nm wavelength) and uses the same basic design tools.
X-Ray Spectroscopy X-ray absorption spectroscopy is an element-specific probe of the local structure of elements in a material. |
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