簡介 ：

Leica EM ACE600是優良的多用途高真空薄膜沉積系統，設計來根據您的FE-SEM和TEM應用的需要生產非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于*高分辨率分析。

這種高真空鍍膜機可以通過以下方法進行配置:濺射、碳絲蒸發、碳棒蒸發、電子束蒸發和輝光放電。

適用于Leica EM ACE600高真空鍍膜機的Leica EM VCT真空冷凍傳輸系統，是無污染的低溫掃描電鏡樣本制備的理想解決方案。

適用于廣泛應用的高真空鍍膜系統

EM ACE600 濺射鍍膜機配備可配置的金屬處理室，非常靈活，可以適應廣泛的應用。通過在單個制備過程中運行多達兩個不同的源，甚至為高級冷凍工作流程配置 EM ACE600，實現您的工作流程目標并滿足您實驗室的需求。

l  對平面或結構化的非導電樣品進行高分辨率成像

l  增強納米級結構的對比度，例如蛋白質或 DNA 鏈

l  為 TEM 網格生產薄而堅固的支撐層或

l  為敏感樣品提供保護層

l  擴展冷凍應用系統

具有濺射涂層的可重現的高質量薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統，每次運行都能始終如一地生產出高質量的濺射鍍膜薄膜。憑借基于的自動化濺射鍍膜工藝，滿足您鍍膜需求的正確條件并獲得可重復的結果。

執行高達 200kX 及更高倍率的高倍 SEM 分析，具有 <2x10-6 mbar 的出色基礎真空和一系列濺射靶材的精細平衡工藝參數。根據樣品形態的需要調整樣品距離和涂層角度。

為了進一步提高鍍膜效果，您可以使用Meissner trap將真空增加到 10-7 毫巴范圍，然后嘗試濺射靶材或對氧氣敏感的樣品材料。

具有碳涂層的可重復的高質量薄膜

使用 EM ACE600，您可以通過使用碳螺紋涂層、碳棒涂層或電子束蒸發來生產高質量的碳膜。

碳絲蒸發已成為一種廣泛使用的方法

Leica Microsystems 開發了的自適應脈沖方法，應用于 EM ACE600。它可以生產亞納米厚度的**、堅固和非晶薄膜，同時*大限度地減少對樣品的熱影響。無論您是需要納米級薄、堅固且清潔的 TEM 支撐層、擴散（保護）涂層，還是大型均質碳層，碳線都是正確的選擇。

對于專用應用，例如旋轉陰影，您可以使用電子束蒸發器。其光束發散角小，非常適合用于陰影涂層，以增強納米級結構的邊緣對比度。

根據您的需求調整 EM ACE600

由于 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可以在不破壞真空的情況下在一臺涂布機中運行多個工藝。同時，將濺射頭與的碳絲蒸發器相結合，或選擇兩個濺射源，在單個制備過程中實現多層金屬涂層。

l  得益于優化的雙源概念，帶有兩個傾斜端口和一個旋轉載物臺，在整個 100 mm 載物臺上生產均勻分布的薄膜

l  從堅固的碳線、電子束和濺射鍍膜機源中選擇

l  為您的 EM ACE600 配備輝光放電濺射

l  可隨時現場升級

專注于準備過程的關鍵部分

使用 EM ACE600 碳和濺射鍍膜機，只需按一個按鈕即可完成您的常規樣品制備。簡單可靠的工作流程和方便的標準操作程序使您能夠專注于 EM 樣品制備的關鍵部分。您可以專注于優化您的工作流程，減少學習如何操作系統或培訓他人如何使用系統的時間。

l  通過前門安全裝載和卸載敏感樣品

l  基于工作流的用戶界面和對相關參數的快速訪問指導方式

l  重量輕、堅固耐用的光源，便于日常處理