研究型DIC微分干涉工業顯微JXM-4100
研究型DIC微分干涉工業顯微鏡JXM-4100是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測，可觀察較厚的標本。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰，襯度更好。符合人機工程學要求的設計，使您在工作中感到舒適和放松。
| 技術規格 | |
| 觀察頭 | 30°鉸鏈式三目（ |
| 目鏡 | WF10×/ |
| WF10×/ | |
| 物鏡 | 平場無限遠長工作距離明暗場物鏡： 5×/0.1B.D/W.D. 10×/0.25B.D/W.D 20×/0.40B.D/W.D. 40×/0.60B.D/W.D. 50×/0.55B.D/W.D. 80×/0.75B.D/W.D 100×/0.80B.D/W.D |
| 轉換器 | 帶DIC插孔五孔轉換器 |
| 平臺 | 雙層移動平臺 |
| 平臺尺寸: | |
| 移動范圍： | |
| 濾色片 | 插板式濾色片（綠、藍、中性） |
| 調焦 | 粗、微動同軸調焦，采用齒輪齒條傳動機構 微動格值 |
| 光源 | 帶孔徑光欄和視場光欄，鹵素燈12V/50W, AC85V-230V，亮度可調節 |
| 偏光裝置 | 檢偏鏡可360度轉動，起偏鏡、 檢偏鏡均可移出光路 |
| 檢測工具 | |
| 可供附件 | 可選附件 |
| 二維測量軟件 | |
| 專業金相圖像分析軟件 | |
| 鹵素燈12V/100W | |
| 測微目鏡 | |
| 130萬、200萬、300萬、500萬像素CMOS電子目鏡 | |
| 平場無限遠長工作距離明暗場物鏡:50×/0.55B.D/W.D. 80×/0.75B.D/W.D | |
| 精密載物臺:X-Y行程 | |
| 攝影裝置及CCD接口0.5×、0.57×、0.75× | |
| DIC（10×、20×、40×、100×） | |
| 壓平機 | |
| 彩色1/3寸CCD 520條線 | |
特點說明
1． 無限遠光學系統。
2． 采用長壽命鹵素燈光源的，光效率更高。
3． 明暗場、偏光、微分干涉功能。
4． 采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度。
5． WF10×（Φ25）超大視野目鏡、長工作距離明暗場金相物鏡。
6． 可插DIC微分干涉裝置的五孔轉換器。
DIC:用諾曼斯基微分干涉襯比法觀察，現己被認為檢驗材料、金屬和半導體結構的手段。
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