日立2011年新推出了超g分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000，達(dá)到掃描電鏡電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了*新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng)，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以*效率的快速獲取樣品超g分辨掃描電鏡圖像。
特點：
1. 新型電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計達(dá)到掃描電鏡世*高分辨率：二次電子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。
2. Hitachi的E×B系統(tǒng)，可以自由控制SE和BSE檢測信號。
3. 全*真空技術(shù)設(shè)計使得SU9000冷場發(fā)射電子束具有超穩(wěn)定和高亮度特點。
4. *新物鏡設(shè)計顯著提高低加速電壓條件下的圖像分辨率。
5. STEM的明場像能夠調(diào)整信號檢測角度，明場像、暗場像和二次電子圖像可以同時顯示并拍攝照片。
6. 與FIB兼容的側(cè)插樣品桿提高更換樣品效率和高倍率圖像觀察效率。
應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 半導(dǎo)體器件
2. 高分子材料
3. 納米材料
4. 生命科學(xué)
技術(shù)參數(shù)
技術(shù)參數(shù)
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