高純鉻顆粒 Cr高純鉻 高純鉻粒 鉻靶材 蒂姆新材料 實驗室鍍膜

　　鉻，銀白色金屬，質(zhì)極硬，耐腐蝕。

　　一、物理性質(zhì)

　　化學(xué)符號：Cr

　　密 度：7.2

　　熔 點：約1900℃

　　原 子 量：51.996

　　沸 點：2482℃

　　波 長/nm：550

　　折 色 率：n=2.49（λ=546nm）

　　n=3.21（λ=630nm）

　　消光系數(shù)k：3.0

　　反 射 率/%：55.6

　　熱 導(dǎo) 率：91W/(cm.K)

　　線膨脹系數(shù)：6.0×10-6℃-1

　　電 阻 率：12.9μΩ.cm

　　莫氏硬度：9

　　蒸發(fā)溫度：飽和蒸汽壓1.33Pa時1400℃

　　蒸 發(fā) 源：W(絲、片)、C（坩堝）

　　特 點：高硬度、高熔點和沸點、強抗腐蝕性、有光澤、有延展性。

　　機械性能和化學(xué)性質(zhì)：膜附著力好，應(yīng)高速率淀積，質(zhì)硬而脆，耐腐蝕, 溶解于20%NaOH+，不溶于水。

　　用 途：用于生產(chǎn)金屬陶瓷、產(chǎn)品和耐高溫非鐵基合金部件;作為裝飾性或功能性鍍層也被廣泛應(yīng)用于電鍍行業(yè)。

　　二、主要產(chǎn)品

　　1.鉻 靶材 99.95%（點擊查看詳情）

　　常規(guī)尺寸：φ25.43mm；φ505mm；φ76.24mm；φ1003mm；尺寸可定做

　　應(yīng)用：磁控濺射鍍膜

　　2.鉻 顆粒 99.95%（點擊查看詳情）

　　常規(guī)尺寸：1-10mm；3-5mm

　　應(yīng)用：蒸發(fā)鍍膜，合金熔煉

　　3.電解鉻 片狀 99.95%（點擊查看詳情）

　　常規(guī)尺寸：1-10mm不規(guī)則片狀

　　應(yīng)用：合金熔煉、電子束蒸發(fā)鍍膜