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　　1、工作條件

　　（1） 環境溫度： 0 - 40℃；

　　（2） 相對濕度： 20-50%；

　　（3）適用電源規格：380V ( AC )，50Hz；

　　2、技術參數

　　pecvd等離子體增強化學氣相沉積設備主要由真空室、反應源、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機臺及電控系統等部分組成；

　　技術指標：

　　（1）極限真空：5X10-5Pa

　　（2）真空室尺寸 直徑400mm高350mm前開門結構 漏率8*10-8Pa/l/s。

　　（3）★射頻電源

　　輸出頻率： (±%)；允許輸出功率：600W。

　　負載匹配調諧方式： 自動跟蹤調諧;

　　調諧電容顯示方式： 主機數字顯示電容位置;

　　控制精度： % （恒功率控制）。

　　（4）真空計 復合真空計(1高1低)測量范圍 大氣-1*10-5Pa。

　　（5）系統操作，能控制旋轉基片加熱臺的溫度、樣品臺的旋轉、樣品擋板的開

　　啟；分子泵、機械泵及電磁閥門的開啟；加熱烘烤及照明。

　　（6）相序保護系統 380V相序保護器(相序.缺相保護)。

　　（7）Pecvd反應源 方式;噴淋式 尺寸;6英寸。

　　（8）樣品臺；室溫-800度 輸入220V 輸出0-36V。

　　（9）4路質量流量計 準確度1% , 線性±1% ,工作壓差-MPa。

　　（10）★陶瓷薄膜電容變送器(壓力薄膜規)壓力范圍0-100kPa。

　　（11）機械泵 抽速不小于8L/s極限壓力小于3Pa；

　　（12）★分子泵 品牌 抽速600L/s 安裝接口CF150轉速24000轉/min

　　極限壓力6*10-7 。

　　（13）★羅茨泵 抽速30L/s 極限壓力 電機功率。

　　（14）旁抽閥 采用角閥+碟閥。

　　（15）插板閥CF150金屬密封。

　　（16）水冷循環機 制冷量大于1500W。