快速加熱高溫真空爐HTFF1能夠對樣品快速加熱,精確控制氣體環境,是材料科學研究的快加熱真空高溫爐,它提供高達1500℃的材料熱處理溫度,并能將微小樣品插入到恒溫加熱區快速加熱,材料研究實驗周期可以有效縮短。
快速加熱高溫真空爐HTFF1具有石墨或氧化鋁可移動棒樣品保持器,可用于在各種氣體環境下操作以控制樣品環境。
HTFF1樣品棒中心可快速加熱至900℃，穩定在在10%溫度范圍內。并且可提供在2分鐘內虧啊蘇加熱到1200攝氏度，然后將溫度降至900°C的模式
HTFF1采用同心套絕緣氧化鋁/氧化硅管包含軸向取向的碳化硅硅碳棒發熱。端部支撐法蘭在較高的工作溫度下水冷。氧化鋁工藝室為客戶提供潔凈、干燥、可控的大氣環境。穩定，可編程溫度控制，可提供手動或自動系統。
其他尺寸可供選擇。
HTFF1規格
Physical Characteristics: | |
整體尺寸（不含真空/氣體配置） | 18"Long x 9" Wide x 10.5" High |
標稱熱稱長 | 12 cm |
樣品杠直徑 | 石墨或氧化鋁，1.25厘米 |
熱區域直徑 | 2.5 cm ID Alumina Tube |
加熱元件 | SiC 電阻 |
電源 | 240 VAC/40A Phase Control SCR |
配置 | Parker/Quick Flange/NPT |
重 | 11 kg |
操作特性 | |
溫度控制 | 標準PID自動化控制 |
2000°C能 | 約 3.5kW |
操作壓 | 1 atm. |
工作（氣體）條件 | 惰性氣體或者真空 |
冷卻 | 水冷端蓋 |
熱區較高運行溫度 | 2000°C + |
中心點溫度(+/- 1 cm) | C型熱電偶的精度在1°C以內。 |
優點
所有的電阻加熱爐需要時間加熱，從根本上限制樣品的加熱速率。TvU的快速爐插入樣品已經成為一個熱爐，實現較大可能的加熱速度。只有輻射爐或燃燒爐才能提供有競爭力的加熱速率。
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