精密烤膠機，高精度烘膠臺研制背景：
光刻工藝及其相關技術是微電子機械系統(MEMS)加工工藝的重要組成部分.均膠和烘干是光刻工藝中的一道工序,為增加膠層與硅片表面粘附能力,提高在接觸式曝光中膠層與掩模版接觸時的耐磨性能及穩定膠層的感光靈敏度,通常采用烘箱或熱板等加熱設備對光刻膠進行干燥.由于熱板易于達到在膠的厚度方向快速均勻烘干等要求,目前越來越多地采用電熱板加熱的方式. 熱板的表面溫度均勻性,溫度控制精度,溫度上升速度等是熱板的主要性能指標.我司針對研究的需要設計了一種溫度控制精度高,板面溫度均勻性好,成本低的電加熱板,用于光刻膠的烘干.
精密烤膠機，高精度烘膠臺應用行業：
用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應于半導體硅片，掩膜版（光罩），柔性電路，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。
精密烤膠機，高精度烘膠臺的性能：
加熱面積尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm，多尺寸，多工位定制
控溫范圍：室溫--200、300℃
溫度分辨率 ：0.1℃
溫度波動度：≤±0.5℃
溫度均勻性：≤±0.5℃
電源輸入：AC220V 10A
加熱功率：1500W
熱板表面:由硬質陽極氧化鋁制成
可定制功能：
支撐pin材料
邊緣支撐pin
N2吹掃，無氧化烘烤
烘焙距離可調模組
真空腔體
智能控制系統
