鼎建閥門球體等離子噴涂技術介紹
2025年09月18日 14:30:11
來源：溫州鼎建閥門有限公司 >> 進入該公司展臺
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等離子噴涂技術是二十世紀五十年代開發出來的一種表面處理工藝。等離子噴涂設備及工藝。是采用等離子弧發生器(噴槍)將通入噴嘴內的氣體(常用Ar、N和H等氣體)加熱和電離，形成高溫高速等離子射流，熔化和霧化金屬或非金屬物料，并使其以高速噴射到經預處理的工件表面上形成涂層的方法
等離子噴涂工藝特點：
1) 熱源溫度高（17000K），適用于難熔材料的噴涂
2) 等離子射流速度大，可高達幾十至幾百米／秒，因此涂層與基體具有較高的結合強度，而且涂層較為致密
3) 噴涂過程中對基體的熱影響較小，可以對已成型的工件進行表面噴涂
4) 噴涂工藝規程穩定，操作比較簡便，噴涂效率較高
目前，等離子噴涂技術用于制備熱障涂層的陶瓷面層和金屬過渡層。按噴涂環境不同而分類的等離子噴涂有以下幾種工藝：大氣等離子噴涂(APS)，保護氣氛(氬氣)等離子噴涂(ASPS)，低壓(LPPS)或真空等離子噴涂(VPS)。
大氣等離子噴涂法是應用*為廣泛的常規噴涂方法，具有操作方便，生產效率高的特點，但涂層質量高而且涂層致密度和結合強度高。
真空等離子噴涂法由于從根本上克服了等離子射流同環境氣氛的相互作用，因此可獲得與原始噴涂材料成分一致的純凈涂層，而且等離子射流速度快(240~610m／s)，由此形成的涂層致密，結合強度與APS涂層相比較高。通常，MCrAlY粘結層采用LPPS或VPS工藝制備，而YSZ陶瓷層的制備則采用APS方法。
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