半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。半導體是一種介于導體和絕緣體之間的材料，在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質的要求比較高，不能含有任何離子雜質。半導體行業用超純水設備采用的制水技術，有效去除水中雜質，保證設備的出水水質。

　　電子半導體超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。水箱設有液位控制系統、水泵設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC及通信遠程輸送至中控室上位機，實現現場就地和集中控制兩種操作方式，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　萊特萊德在半導體行業產品清洗用超純水設備設計上，采用成熟、可靠、、自動化程度高的兩級RO+EDI+拋光混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水出水水質電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流可靠產品，采用PLC+觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。

　　萊特萊德半導體行業應用的超純水設備優勢：

　　1、系統采用新的水處理技術雙級RO+EDI+混床模塊化設計，嚴格按新技術設計標準，確保水質穩定，長效運行。

　　2、通過專業技術設計，確保系統短時停機及長時間停機時水質保持穩定。

　　3、通過專業技術保證終端出水恒壓、水質穩定。

　　4、通過的技術，較大限度的提高系統回收率，降低能耗和運行成本。

　　5、采用海德能ESPA2超低壓膜，運行穩定，能耗低。

　　6、采用pH調節系統以確保水溫下降或原水pH值偏低時EDI出水水質。

　　7、配備專門的有化學清洗系統，可定期對反滲透進行化學清洗，以確保系統穩定運行。

　　8、配備濃水置換專業技術，防止膜系統受到微生物污染。

　　9、EDI及后段出水采用超純水專用管道，較大限度的保證出水水質。

　　10、EDI水箱采用氮封裝置，以確保終端水質穩定及延長核能混床壽命。

　　11、采用PLC加觸摸屏控制系統，并采用進口電氣原件，操作方便，運行穩定。

　　萊特萊德超純水設備是在反滲透處理設備之后出現的水處理用設備，該設備的出現取代了傳統的離子置換設備，并且有著出水質量高、資金投入少、操控簡單、設備體積小等優點。