近日，繼光刻機(jī)問世后，我國有關(guān)部門再次傳來利好消息，8英寸石墨烯晶片正式亮相。事實(shí)上，所謂的石墨烯晶圓是碳基材料。與硅基材料相比，碳基材料具有充分的優(yōu)勢。碳晶體管的理論工作速度是硅晶體管的5-10倍。然而，在功耗方面，碳基晶圓比硅基材料少約十分之一。

　一旦傳統(tǒng)的硅基芯片達(dá)到摩爾定律的極限，那么碳基芯片將成為半導(dǎo)體領(lǐng)域的一種新材料，芯片產(chǎn)業(yè)也將“改變”。由于芯片生產(chǎn)過程對(duì)水質(zhì)要求較高，超純水的質(zhì)量直接影響芯片的效果，因此國產(chǎn)芯片再度“破冰”，超純水設(shè)備是功不可沒的。

　　起初超純水是為了研制超純材料(半導(dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)生產(chǎn)出來的水，是一種除了水分子外幾乎無其他雜質(zhì)的水。傳統(tǒng)的超純水制取工藝通常是采用離子交換樹脂，但需要經(jīng)常進(jìn)行樹脂再生，既耗費(fèi)物力又耗費(fèi)人工，萊特萊德經(jīng)過多年實(shí)踐，同時(shí)結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透加離子交換系統(tǒng)(或EDI)相結(jié)合的工藝來制取超純水，該工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有運(yùn)行成本低的優(yōu)點(diǎn)(離子交換器的再生周期大大延長)，運(yùn)行可靠。萊特萊德超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國ASTM D5127電子及半導(dǎo)體業(yè)用純水水質(zhì)TypeE-1.2，高于中國國家電子級(jí)超純水標(biāo)準(zhǔn)GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標(biāo)準(zhǔn)。

　　超純水設(shè)備的優(yōu)勢：

　　1、無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作。保護(hù)了環(huán)境。

　　2、連續(xù)、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復(fù)雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復(fù)雜的操作程序，操作大大簡便化。

　　3、降低了安裝的要求：超純水處理設(shè)備采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場地的高度和靈活地構(gòu)造。模塊化的設(shè)計(jì)，使EDI在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護(hù)。

　　萊特萊德超純水設(shè)備能連續(xù)穩(wěn)定地制備出高質(zhì)量的超純水，不會(huì)因樹脂再生而停止運(yùn)行。設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對(duì)緊湊，占地面積小，可為企業(yè)節(jié)省大量空間。工業(yè)超純水設(shè)備出廠前需要進(jìn)行調(diào)試，設(shè)備故障概率小，日常維護(hù)維修操作非常簡單。