光學玻璃用純水設備清洗工藝包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗；也有行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
 

　　影響漂洗效果的因素有以下幾個：洗劑的漂清性能，漂洗水的純度、溫度以及流動性等。一般在常溫下，電導率為0.1μs/cm2的純水可以保證漂洗的要求。 經過漂洗后的鏡片表面的潔凈度應和漂洗水潔凈度一致。
 

　　常用的處理工藝為：反滲透+EDI(電去離子法)使產品水水質能達到0.1μs/cm2。反滲透+EDI高純水系統是利用反滲透系統除去水中95-97%以上的離子雜質,再用后級EDI精處理,除去水中剩余離子,產水水質電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的完美結合,有著設備投資省,運行成本低,管理維護方便等特點.反滲透ROReverse Osmosis技術是利用壓力差為動力的膜分離過濾技術,源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究,后逐漸轉化為民用,目前已廣泛運用于科研醫藥食品飲料海水淡化等領域.(RO)反滲透膜孔徑小至納米級，在一定的壓力下,H2O分子可以通過RO膜,而源水中的無機鹽重金屬離子有機物膠體細菌病毒等雜質無法通過RO膜,從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區分開來.
 

　　EDI又稱連續電除鹽(Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization)，是將兩種已經成熟的水凈化技術--電滲析和離子交換相結合，溶解的鹽在低能耗的條件下被去除，在運行過程中不需要化學再生，并且其出水電阻率較混床出水還要高，可達10-15MΩ/CM，滿足電子級水I級標準。EDI對一級反滲透出水電導率沒有太高的要求，進水電導率在4-12us∕cm其都能夠合格產水。屬于環保型技術，離子交換樹脂不需酸、堿化學再生，節約大量酸、堿和清洗用水，大大降低了勞動強度。更重要的是無廢酸、廢堿液排放，屬于非化學式的水處理系統，它無需酸、堿的貯存、處理及無廢水的排放。
 

　　光學鏡片玻璃清洗用超純水設備具有以下優點：
 

　　(1) 出水水質優良,出水pH值接近中性.
 

　　(2) 出水水質穩定,短時間運行條件變化如進水水質或組分、運行流速等對混床出水水質影響不大.
 

　　(3) 間斷運行對出水水質的影響小,恢復到停運前水質所需的時間比較短.