意大利哈納HI84100二氧化硫滴定分析儀概述：
意大利哈納HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
意大利哈納HI84100二氧化硫滴定分析儀特點：
基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。
人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
意大利哈納HI84100二氧化硫滴定分析儀技術參數：
測量項目 | 技術參數描述 | ||||||||||
測量范圍 | 0 to 400 ppm (mg/L) SO2 | ||||||||||
解析度 | 1 ppm (mg/L) | ||||||||||
測量精度 | 讀數的5% | ||||||||||
測量方法 | 滴定法 | ||||||||||
測量原理 | 等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||
樣品取樣量 | 50 mL | ||||||||||
氧化還原電極類型 | HI 3148B/50食品玻璃復合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C | ||||||||||
定量泵設置 | 流量設置為：0.5 mL/min | ||||||||||
磁力攪拌設置 | 攪拌速率設置為：1500 rpm | ||||||||||
適用環境 | 0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝 | ||||||||||
電源模式 | AC230V/60 Hz；10VA | ||||||||||
尺寸重量 | 主機尺寸：208 x 214 x 163 mm 主機重量：2200 g | ||||||||||
pH值與游離二氧化硫轉換關系 | |||||||||||
相關項目 | pH值與游離二氧化硫轉換對應值 | ||||||||||
pH值 | 3.0pH | 3.1 pH | 3.2 pH | 3.3 pH | 3.4 pH | 3.5 pH | 3.6 pH | 3.7 pH | 3.8 pH | 3.9 pH | |
游離二氧化硫（ppm） | 14 | 18 | 22 | 28 | 35 | 44 | 55 | 69 | 87 | 109 | |
HI84100二氧化硫滴定分析儀市場價格：
型號 | HI84100 |
市場價格 | 8800元 |
HI84100標準配置：
滴定分析儀主機、HI 3148B/50食品玻璃復合氧化還原電極、相關附件、攜帶箱、中英文使用手冊
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