| ◇ 應(yīng)用領(lǐng)域： |
| 主要特點(diǎn) |
| 1. 多元素同時(shí)分析：一次可分析近30種元素； 2. 檢出限低： zui低檢出限：pg級(jí)（10－12g）； zui低相對(duì)檢出限：ng/mL級(jí)（10－9）； 3. 靈敏度高： 采用了高靈敏度、高計(jì)數(shù)率的硅漂移（SDD）檢測(cè)器 采用特殊的二次全反射光路使儀器在不同能量范圍都能有較高靈敏度。 4. 測(cè)量元素范圍廣 可以從11號(hào)元素Na到92號(hào)元素U； 5. 樣品用量少 μL、μg級(jí)； 6. 直接測(cè)量 粉末樣品、懸浮液樣品等有平面的樣品都可直接進(jìn)行分析，zui低檢出限達(dá)到ng/g量級(jí)； 7. 測(cè)量時(shí)間短 一般在100秒～1000秒； 8. 安全穩(wěn)定 使用功率小于0.5kW，無(wú)須大功率，安全可靠。 9自動(dòng)化程度高，操作方便 10.應(yīng)用領(lǐng)域廣：適合于各種樣品類(lèi)型和應(yīng)用領(lǐng)域；
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| 技術(shù)參數(shù) |
| 主要性能指標(biāo)： 1.zui低檢出限：pg級(jí)（10－12g）； 2.zui低相對(duì)檢出限：ng/mL級(jí)（10－9）； 3.重復(fù)性：1%-3%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L） 4.穩(wěn)定性：2%-4%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L） 5.單次可同時(shí)分析元素?cái)?shù)量：近30種； 6.分析元素范圍：Na-U 7.樣品用量：μL、μg級(jí)； 8.定量方法：基本參數(shù)法；內(nèi)標(biāo)法； 9.測(cè)量時(shí)間：少于1000S 10激發(fā)功率：小于500W 配置： 1. 光路系統(tǒng)：以光學(xué)玻璃為基體材料的基于全反射原理的雙光路全反射系統(tǒng)，包括光路、狹縫限束光欄及密封件殼。 2. 光源系統(tǒng)：高壓電源系統(tǒng)，雙X射線(xiàn)管激發(fā)系統(tǒng)，水冷及控制系統(tǒng) 3. 數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng)：硅漂移探測(cè)器（SDD）、譜儀放大器、多道分析器 4. 機(jī)械調(diào)節(jié)系統(tǒng)：控制板卡，固態(tài)繼電器組，步進(jìn)電機(jī)及相關(guān)對(duì)X射線(xiàn)管和樣品托運(yùn)動(dòng)機(jī)械系統(tǒng)和傳感器 5. 計(jì)算機(jī)、打印機(jī) 6. 軟件系統(tǒng)：獲取軟件、分析應(yīng)用軟件 7. 機(jī)柜 8. X射線(xiàn)屏蔽系統(tǒng) |
| ◇ 應(yīng)用領(lǐng)域： TXRF在元素分析領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用現(xiàn)狀和發(fā)展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫(yī)藥、環(huán)保、法檢、考古、高純材料等等各領(lǐng)域內(nèi)的常量、微量、痕量元素分析測(cè)定，特別在半導(dǎo)體工業(yè)中的硅表面質(zhì)量控制方面，有著不可替代的優(yōu)勢(shì)，目前已在上得到廣泛應(yīng)用。 地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長(zhǎng)石、氧化銻 冶金：鎳電解液、銅陽(yáng)極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜純Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承 化工：柴油中的硫含量、各種催化劑、陶瓷釉料 環(huán)境保護(hù)：自來(lái)水、大氣飄塵、污水污泥 生物：海洋動(dòng)物牙齒和體液 醫(yī)藥：頭發(fā)和指甲中的有益有害元素、丹參中的有害微量元素 食品：飲料中的元素 刑偵法醫(yī)：現(xiàn)場(chǎng)樣品鑒定 考古：青銅器等 材料：高純石英雜質(zhì)含量，KTP晶體注入Er的認(rèn)定 |
| 主要特點(diǎn) |
| 1. 多元素同時(shí)分析：一次可分析近30種元素； 2. 檢出限低： zui低檢出限：pg級(jí)（10－12g）； zui低相對(duì)檢出限：ng/mL級(jí)（10－9）； 3. 靈敏度高： 采用了高靈敏度、高計(jì)數(shù)率的硅漂移（SDD）檢測(cè)器 采用特殊的二次全反射光路使儀器在不同能量范圍都能有較高靈敏度。 4. 測(cè)量元素范圍廣 可以從11號(hào)元素Na到92號(hào)元素U； 5. 樣品用量少 μL、μg級(jí)； 6. 直接測(cè)量 粉末樣品、懸浮液樣品等有平面的樣品都可直接進(jìn)行分析，zui低檢出限達(dá)到ng/g量級(jí)； 7. 測(cè)量時(shí)間短 一般在100秒～1000秒； 8. 安全穩(wěn)定 使用功率小于0.5kW，無(wú)須大功率，安全可靠。 9自動(dòng)化程度高，操作方便 10.應(yīng)用領(lǐng)域廣：適合于各種樣品類(lèi)型和應(yīng)用領(lǐng)域； |
| 技術(shù)參數(shù) |
| 主要性能指標(biāo)： 1.zui低檢出限：pg級(jí)（10－12g）； 2.zui低相對(duì)檢出限：ng/mL級(jí)（10－9）； 3.重復(fù)性：1%-3%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L） 4.穩(wěn)定性：2%-4%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L） 5.單次可同時(shí)分析元素?cái)?shù)量：近30種； 6.分析元素范圍：Na-U 7.樣品用量：μL、μg級(jí)； 8.定量方法：基本參數(shù)法；內(nèi)標(biāo)法； 9.測(cè)量時(shí)間：少于1000S 10激發(fā)功率：小于500W 配置： 1. 光路系統(tǒng)：以光學(xué)玻璃為基體材料的基于全反射原理的雙光路全反射系統(tǒng)，包括光路、狹縫限束光欄及密封件殼。 2. 光源系統(tǒng)：高壓電源系統(tǒng)，雙X射線(xiàn)管激發(fā)系統(tǒng)，水冷及控制系統(tǒng) 3. 數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng)：硅漂移探測(cè)器（SDD）、譜儀放大器、多道分析器 4. 機(jī)械調(diào)節(jié)系統(tǒng)：控制板卡，固態(tài)繼電器組，步進(jìn)電機(jī)及相關(guān)對(duì)X射線(xiàn)管和樣品托運(yùn)動(dòng)機(jī)械系統(tǒng)和傳感器 5. 計(jì)算機(jī)、打印機(jī) 6. 軟件系統(tǒng)：獲取軟件、分析應(yīng)用軟件 7. 機(jī)柜 8. X射線(xiàn)屏蔽系統(tǒng) |
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