技術參數
實驗機理 |
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產品特點 |
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開啟式管式爐 |
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等離子射頻電源 |
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真空泵和閥門 |
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質量流量計 |
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細節圖展示 |
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外形尺寸 |
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| 操作視頻 | 多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統 | ||||
質保期 | 一年質保期相關耗材除外,如加熱元件,密封圈等易耗件 | ||||
質量認證 | CE認證 | ||||
名稱:可組合式等離子增強化學氣相沉積裝置 編號:ZL-2011-2-0355777.1 尊重創新、鄙視抄襲、侵權必究 |
中美合資合肥科晶材料技術有限公司
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為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD), 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。
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質保期 | 一年質保期相關耗材除外,如加熱元件,密封圈等易耗件 | ||||
質量認證 | CE認證 | ||||
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