高真空CVD化學氣相沉積管式爐系統產品介紹：

該款CVD系統, 可以分為低溫、中溫、高溫三種加熱形式，加熱元件可分為電阻絲（1200℃以下使用）、硅碳棒（1400℃以下使用）、硅鉬棒（1700℃以下使用）等；

CVD管式爐由供氣系統、加熱系統、真空系統等組成；

1）加熱系統可以分單溫區、雙溫區、三溫區、多溫區等；

2）真空系統可分為低真空和高真空，高極限真空可以達到10-4Pa（分子泵組）；

3）供氣系統是流量調節用戶可選質量流量計或浮子流量計，混氣路數用戶可選2路、3路、4路、5路、6路等相混合（主要根據客戶工藝要求定制）；

爐底(可選)配安裝一對滑軌，可用手滑動（主要適用于1200℃以下加裝滑軌）。可以達到快速升降溫的目的，為取得快加熱速率，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品區。可在樣品加熱后移動爐子到另一端，實現快速降溫功能。

主要用途：

應用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。

高真空CVD化學氣相沉積管式爐系統主要功能和特點：

1、 1200℃爐蓋可打開，可以隨時觀察加熱的物料，并能迅速降溫，滿足材料急冷急熱的實驗需要；

2、 爐膛采用真空吸附成型的高純氧化鋁多晶纖維制成，保溫效果好，耐用節能，反射率高、溫場均衡，等特點；

3、1）、加熱元件采用高電阻優質合金絲0Cr27Al7Mo2，高發熱溫度可達1200℃；

     2）、加熱元件采用優質硅碳棒，高發熱溫度可達1400℃；

     3）、加熱元件采用高溫硅鉬棒，高發熱溫度可達1700℃；

4、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性。

5、爐管采用高純石英管高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小，能承受急冷急熱的溫度。

6、采用KF快速法蘭密封，僅需要一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人為操作導致漏氣的可能；減少了因安裝法蘭而造成加熱管損壞的可能。

7、預留了真空、氣路快速接口，可配合我司真空系統、混氣系統使用；

8、我司可預留485轉換接口，可通過我部的軟件，與計算機互聯，可實現單臺或者多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能；可安裝無紙記錄裝置，實現數據的存儲、輸出；

9、加熱采用上蓋開啟式，超溫和斷偶保護警報并斷電，漏電保護，操作安全可靠。

技術參數：