的這五大誤區，你中招了幾個？

　　隨著近幾年國家對知識產權的重視，國內的企業申請量明顯大幅度增加，但是不少企業在申請過程中仍存在誤區。今天，我們就來講一講。

　　誤區一 技術方案交待不清楚

　　很多人提交的申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案沒有交待清楚，這給代理人制作正式申請文件帶來很大困難。

　　在要求發明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避。

　　這些發明人其實就是沒有把握好保密與公開的度。

　　他們過度地要求保密，害怕多透露一點技術信息，而恰恰是這種“過度"忽視了技術方案交待不清楚，公開不充分的問題。

　　誤區二 申請前不做任何檢索

　　有些發明人提交的申請文件沒有做查新檢索，對技術方案的新穎性如何不確定。

　　甚至根本不知道其技術方案有沒有公開過或公開使用過，這也是一個非常普遍的現象。

　　范圍內的任何文獻都可影響技術方案的新穎性。但在使用方面，只有國內的使用才影響技術方案的新穎性。

　　誤區三 先發表論文或成果再申請

　　有些發明人取得研究成果后急于發表文章或成果，而沒有想到先申請保護。

　　由于發表文章或成果不可避免地要公開技術內容，使申請失去新穎性而得不到保護。

　　誤區四 對缺乏有效的管理

　　有些企業申請了很多，但無專人管理。

　　文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。

　　有的權已經遭受侵犯但企業管理者對特征不了解，不能及時提訟。

　　誤區五 缺乏長遠的戰略規劃

　　有計劃地實施戰略對企業來說非常重要，可以避免時間和精力的浪費。

　　一些企業毫無目的的申請大量，結果導致率低，并產生大量的垃圾，浪費時間和精力。

　　一個企業應該對自己行業內的基本狀況及外圍狀況有十分明確的認識。

　　從而找到技術突破口，排除他人障礙，確立自己的優勢，贏得市場競爭。

　　總的來說，無論是對于企業還是個人都是非常重要的，一定要注意關于的這些誤區，以防止產生不必要的麻煩。

　　企業一定要對自己的商標、、知識產權等進行一個系統的分類并做好管理，同時重視知識產權的保護。