RMS可重復性(標準模式):1nm 外側面采樣:0.11到8.8μm
RMS可重復性(精度模式):0.1 nm 視場:8x10mm(@0.78x)到
RMS可重復性(單波段):0.05 nm 0.84x0.063mm(@100x)
垂直掃描范圍:30μm,100μm zui大斜度:40°到3.2°
或者10mm 校準精度:超過0.1%
數據采集時間:zui高可到7.2μm/s 反射率:1%到100%
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廣范圍用于表面粗糙度、三維形貌、微觀結構精密測量和分析;
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