基片尺寸：Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape material applied；

靶尺寸：Size Φ1”inch to Φ８inch；

靶數量：up to 6pcs；

基片加熱： up to 900℃；

真空度：5x10-5 Pa,(On request,6x10-6 Pa or less) ；

靶Swing功能；

激光束掃描功能；

配備；

可選功能：Load Lock Chamber
                    RHEED分析功能
                    多功能系統：Comibination with Sputter gun,Electron beam、IBAD

專業的脈沖沉積系統（基片尺寸Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape）供應商，憑借多年的嫻熟的經驗、雄厚的研發實力和生產能力，為不同客戶提供專業脈沖沉積系統方案和優質的技術服務；并且已經被眾多高校、研究所和R&D企業所采用。

同時也為客戶提供同類設備：

大面積電子束沉積系統：沉積區域70mmx200mm，適合金屬、絕緣材料和介電材料等沉積；

大面積濺射系統：沉積區域Max 75mm(W) x 310mm(L)，適合金屬、半導體、絕緣材料和介電材料等沉積；

小型化濺射臺：φ１inch～φ２inch基片，，特別適合高校研究使用；