MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）可變形鏡面技術(shù)MEMS可變形反射鏡

Boston Micromachines公司了MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）可變形鏡面技術(shù)，MEMS可變形反射鏡用于的光學(xué)控制。這些微型變形鏡使世界研究人員能夠在天文學(xué)、顯微鏡技術(shù)、激光控制和視網(wǎng)膜成像方面取得突破。在MEMS可變形反射鏡開發(fā)和擴(kuò)展到全高分辨率成像系統(tǒng)方面，Boston Micromachines公司致力于推動(dòng)光子學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域的研發(fā)。

維爾克斯光電為用戶提供來自Boston Micromachines Corporation(BMC)的微機(jī)電可變形反射鏡和微機(jī)電分段變形鏡，類型主要分為低致動(dòng)器數(shù)DM、中執(zhí)行器計(jì)數(shù)DM以及高執(zhí)行器數(shù)MEMS可變形反射鏡。

Multi-DM可變形鏡能夠?qū)崿F(xiàn)高達(dá) 5.5 μm 的行程、2 kHz 的幀速率、亞納米級(jí)步長(zhǎng)且無滯后。以 X-Driver 的形式為 Multi-DM 系統(tǒng)提供高速電子升級(jí)。

中執(zhí)行器數(shù)DM系統(tǒng)是波前校正器，適用于天文學(xué)、激光通信和遠(yuǎn)程成像等要求嚴(yán)苛的應(yīng)用，提供三種類型：Kilo-DM、492-DM 和 648-DM。

Kilo-DM可變形鏡是用于、高速、高分辨率波前控制的使能組件。多達(dá) 1020 個(gè)執(zhí)行器控制在1納米以下的精度且無滯后，該系統(tǒng)非常適合要求嚴(yán)苛的應(yīng)用。

作為流行的Kilo-DM可變形鏡的替代品，492-DM和 648-DM可以以更低的成本使用并產(chǎn)生的效果。492-DM和648-DM系統(tǒng)分別將492和648執(zhí)行器的精度控制在1 nm以下且無滯后，是天文學(xué)和下一代成像應(yīng)用的理想選擇。

Boston Micromachines的MEMS可變形反射鏡其中低制動(dòng)器數(shù)MEMS反射鏡是用于高級(jí)波前控制的經(jīng)濟(jì)且通用的像差調(diào)制解決方案，具有高達(dá)140個(gè)控制的元件和低致動(dòng)器間耦合，Multi-DM系統(tǒng)是包括顯微鏡、天文學(xué)、視網(wǎng)膜成像和激光束整形應(yīng)用在內(nèi)的應(yīng)用的理想選擇。這種DM可用于自適應(yīng)光學(xué)或空間光調(diào)制器應(yīng)用的連續(xù)和分段表面。

Boston Micromachines Corporation(BMC)是高執(zhí)行器數(shù)MEMS變形鏡技術(shù)的行業(yè)，這些反射鏡部署在世界各地的天文設(shè)施中，用以提高波前校正能力，其中4K-DM 安裝在雙子座行星成像儀器上2K-DM則包含在多個(gè)空間望遠(yuǎn)鏡概念的設(shè)計(jì)中。

此外，2K-DM 被安裝為斯巴魯日冕儀自適應(yīng)光學(xué)（SCExAO）儀器和麥哲倫望遠(yuǎn)鏡 (MagAO-X) 的實(shí)驗(yàn)性日冕自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)中的啟用組件。多年來，兩者都一直在空中觀測(cè)中持續(xù)運(yùn)行。

MEMS可變形反射鏡反射鏡特點(diǎn)：

-大陣列產(chǎn)生高分辨率波前校正。

-的微結(jié)構(gòu)允許對(duì)高空間頻率表面的相鄰執(zhí)行器之間的影響小

-優(yōu)化設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)高速應(yīng)用的快速波前整形

微機(jī)電分段變形鏡，MEMS可變形反射鏡規(guī)格：

請(qǐng)注意：填充系數(shù)>98%(SLM)，表面形狀 lt;30 nm

自定義執(zhí)行器可根據(jù)要求提供

微機(jī)電可變形反射鏡, MEMS變形鏡規(guī)格：

請(qǐng)注意：填充系數(shù)>99%(DM)，表面形狀 lt;30>自定義執(zhí)行器可根據(jù)要求提供

MEMS可變形反射鏡可用的選項(xiàng)：

亞納米級(jí)平均步長(zhǎng)

S-Driver 不適用于 648 DM