微流控芯片光刻機專業為微流控芯片制作而設計,用于刻劃制作微結構表面,全自動化和可編程操作,適合幾乎所有常用材料。
微流控芯片光刻機采用多功能一體化設計理念，一臺光刻機具有六個傳統單一的表面刻劃機器的功能，而且不需要無塵環境，用戶安裝使用不再需要單獨建設超凈間，從而大大提高用戶的使用經濟性和方便性。
微流控芯片光刻機特色
可以根據用戶的芯片襯底基片尺寸，形狀和厚度進行調節。是一種無掩模光刻系統，具有兩個易操作的軟件，用戶可以創建個人微結構圖案，從單個微通道到復雜的微觀結構都可以創建。
具有技術突破性設計和靈活性優勢，非常適合加工微納結構用于MEMS，BioMEMS，微流控系統，傳感器，光學元件，MicroPatterning微圖案化，實驗室單芯片，CMOS傳感器和所有其他需要微結構的應用。
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無掩模光刻系統可以快速而輕松地做出許多種微圖案結構，從到非常復雜的都可以。它的寫入磁頭裝備有一個激光二極管（波長405納米- 50毫瓦），光學掃描器和F-θ透鏡（405納米）。激光束根據設定微結構圖案而運動。
為了方便使用，較好的再現性和較高的質量，焦距是可以根據基片厚度進行調節的。圖像采集期間可以使用控制面板調節焦距。幾個基片厚度都可以使用。 編程參數被保存以供以后使用，修改或其他用戶使用。
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