徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200

樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前，通常需要對其表面鍍一層金屬膜，以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電，并增強二次電子或背散射電子信號，獲得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸

Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。

主要技術(shù)參數(shù)：

? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

? 設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可控制碳膜厚度

? 可選石英膜厚檢測器，控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm

? 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

? 觸摸屏控制，簡單方便

? 真空度7×10-3mbar

? 濺射電流：0-150mA可調(diào)

? 方形樣品倉設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

? 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm