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高純度奈替米星的分離純化 廠家定制 售后保障

產品二維碼
參   考   價: 2000
訂  貨  量: ≥1臺
具體成交價以合同協議為準
  • 產品型號:
  • 品牌:
  • 產品類別:膜分離設備
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時間:2022-08-09 07:42:49
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合肥沃騰膜分離設備有限公司

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  • 經營模式:其他
  • 商鋪產品:890條
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產品簡介

一種高純度奈替米星的分離純化方法,屬于藥物的連續色譜分離結合膜分離純化技術領域

詳情介紹

一種高純度奈替米星的分離純化方法,屬于藥物的連續色譜分離結合膜分離純化技術領域。本發明利用連續色譜分離技術從三乙酰西索米星反應液中分離純化得到高純度的三乙酰西索米星,再繼續利用工業色譜分離與膜分離組合技術從奈替米星水解液中純化分離得到高純度的奈替米星。采用連續色譜分離系統組合超、納濾膜技術,使中間體三乙酰西索米星及奈替米星料液經連續色譜分離系統后能夠更有效地得到分離純化,在膜分離生產過程中控制合理的溫度條件,減少降解產物的生成,同時可以降低生產成本,縮短生產周期,提高產品質量,減少廢水的排放量 液相色譜HPLC法測定產品的奈替米星純度≥98%。
一種高純度奈替米星的分離純化方法,其特征在于分離純化步驟為:(1)三乙酰西索米星純化方法:西索米星堿基通過乙?;磻玫饺阴N魉髅仔欠磻?;反應液稀釋上連續色譜柱,分去西索米星、一乙酰西索米星、二乙酰西索米星和四乙酰西索米星,得到高純度的三乙酰西索米星解析液;使用截留相對分子質量為400以下的納濾或反滲透膜濃縮,操作壓力為0.15-0.3MPa,操作溫度為5-35℃,濃縮至三乙酰西索米星質量濃度為5%-15%;再用蒸汽加熱真空薄膜濃縮,


操作條件為真空度0.04-0.1MPa,操作溫度為45-65℃,濃縮至三乙酰西索米星質量濃度為20%-35%;濃縮液用噴霧干燥或冷凍干燥的方法獲得固體,*液相色譜HPLC法測定三乙酰西索米星純度≥95%,水分≤5%;(2)奈替米星純化方法:純度≥95%的三乙酰西索米星通過*化保護 化反應、和堿水解得到奈替米星水解液,調節pH至中性,稀釋后上連續色譜柱,分去西索米星、加拉明、N,N-二*奈替米星雜質,得到高純度的奈替米星解析液;解析液通過超濾膜去除大分子物質,得到超濾清液,操作壓力為0.1-0.8MPa,操作溫度為5-35℃,透析水量以體積百分計占進料解析液體積的15%-50%;超濾液使用截留分子量為400以下的納濾或反滲透膜濃縮,操作壓力為0.15-0.3MPa,操作溫度為5-35℃,濃縮至奈替米星質量濃度為5%-12%;再用蒸汽加熱真空薄膜濃縮,操作條件為真空度0.04-0.1MPa,操作溫度為45-65℃,濃縮至奈替米星質量濃度為16%-35%;濃縮液用*酸成鹽,活性炭脫色后用噴霧干燥或冷凍干燥的方法獲得*酸奈替米星固體,*液相色譜HPLC法測定奈替米星純度≥98%。










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