應(yīng)用領(lǐng)域
脈沖射頻輝光放電光譜儀不僅可對表面/深度進行剖析，同時也可做成分分析。它對固體材料，如金屬、金屬合金鍍層、半導體、有機鍍層、玻璃等中所有的元素都有很高的靈敏度，甚至是氣體元素也可進行分析。
作為新興的表面分析技術(shù)，輝光放電光譜儀憑借其功能和特點，可以與XPS和SEM有很好的互補。
GD-OES功能及用途
脈沖射頻輝光放電光譜儀能夠在短短幾分鐘內(nèi)幫助您獲得如下信息：
樣品中含有什么元素？
屬于哪個濃度水平？
樣品在深度上是否分布均勻？
樣品是否有鍍層或應(yīng)用了表面處理？
鍍層的厚度是多少？
界面是否有污染？
樣品是否被氧化？
不同層之間是否存在散射？

新的脈沖射頻輝光源可以測試任何類型的固體樣品：包括導體、非導體，甚至是在檢測脆性樣品或熱敏樣品時也具有優(yōu)異的性能。
HORIBA Scientific的所有GD儀器都采用了高動態(tài)范圍檢測器，采用該項技術(shù)，使儀器的靈敏度可以做到實時、自動優(yōu)化。這樣在分析樣品的時候可以做到對樣品的痕量變化到常量濃度分析，進行快速靈敏的檢測而無需任何折衷或參數(shù)預設(shè)。

GD-Profiler™ HR
概要
HORIBA Jobin Yvon GD-Profiler™ HR 對于解決分析問題，即使是復雜的基體，提供了高分別率和元素數(shù)量。60種元素（包括氣體元素）可以同時分析。
特征
RF射頻發(fā)生器- 標準配置，符合E級標準，穩(wěn)定性高，濺射束斑極為平坦，等離子體穩(wěn)定時間極短，表面信息無任何失真。
脈沖工作模式既可分析常見的涂、鍍層和薄膜，也可以很好的分析熱傳導性能差和熱易碎的涂、鍍層和薄膜。
多道(同時)型光學系統(tǒng)可全譜覆蓋，光譜范圍：110nm至800nm，包含遠紫外，可分析C, H, O, N, Cl
HORIBA Jobin Yvon 的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器有光通量，因而有高的光效率和靈敏度
HDD® 檢測器可進行快速而高靈敏的檢測，動態(tài)范圍達到10個量級
寬大的樣品室方便各類樣品的加載
QUANTUMT XP軟件可以多種格式靈活方便的輸出檢測報告
激光指點器可用于準確加載樣品
HORIBA Jobin Yvon單色儀(選配件)可極大的提高儀器的靈活性，可同時測定N+1個元素
GD-Profiler HR 1米焦距，分辨率高達14pm，可同時分析60個元素.
GD-Profiler HR 可以附加選配1米焦距單色儀，分辨率高達9pm.