1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶需要選擇通道元素；

2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用短的時間達到優的分析效果；

3、光學系統采用非真空恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性；

4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

5、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；

6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除干擾；

8、HEPS固態光源，適應各種不同材料 ；

9、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性；

10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；

11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；

13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊的運行狀況；

14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；

15核心器件全部，保證了儀器的品質。 產品參數指標： 光學系統 光學結構 帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統 光室溫度 自動控制恒溫：35℃±0.5℃ 波長范圍 160-800nm 光柵焦距 350 mm 光柵刻線 2160 l/mm 一級光譜線色散率 1.2 nm/mm 探測器 多塊高性能線陣CCD 平均分辨率 10pm/pixel 激發臺 氣 體 沖氬式 氬氣流量 激發時3-5L/min， 待機時:無須待機流量 電 極 鎢材噴射電極技術 吹 掃 點擊自吹掃功能 補 償 熱變形自補償設計 分析間隙 樣品臺分析間隙：4mm 激發光源 類 型 HEPS固態光源 頻 率 100-1000Hz 放電電流 1-80A 特殊技術 放電參數優化設計 預 燃 高能預燃技術 數據采集系統 處理器 ARM處理器，高速數據同步采集處理 接 口 基于DM9000A的以太數據傳輸 電源與環境要求 輸 入 220VAC 50Hz 功 率 分析時大700W，待機狀態40W 工作溫度 10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h） 工作濕度 20-80% 尺寸與重量 主機尺寸 800*750*500 mm 重 量 130Kg