棱鏡耦合波導測試儀
Metricon Model 2010棱鏡耦合儀使用*的光波導技術對電介質及聚合物膜的膜厚和折射率/雙折射進行快速及準確的測量。對于許多薄膜及光波導用途，Model 2010提供了比以橢圓光度法或分光光度法為基礎的傳統儀器更的技術。
MODEL 2010的優勢
Model 2010數據分析軟件是通用的，兼容Windows XP / Vista / Windows 7,極大地提高了用戶友好的控制程序,和新測量的功能，允許測量從常見到特殊的薄膜而不需依靠內部系數或菜單式校準曲線。
• 不必預先知曉厚度及折射率
• ±.0005常規折射率分辨率-尤其在大批量生產時比其他技術更具優勢（可獲得更高折射率）
• 通用化-沒有固定的薄膜/基底合并菜單
• 可測量雙膜結構中的單膜厚度及折射率
• 體材料或基底材料的高精度折射率測量
• 快速測量薄膜或漫反射光波導參數（20秒）
美國Metricon公司引入了棱鏡耦合儀，開創了在薄膜、大面積材料、光波導等實際應用的棱鏡耦合技術，多年來已經超過千套測試系統在多個大學，研究所和企業實際應用，并且在數百期刊和文獻上都有引用。
 | 主要技術指標： z 折射率精度:±0.001 (甚至更高 0.0001-0.0002)z 折射率分辨率: ±0.0003(甚至高于0.00005) z 厚度精度:±(0.5%+50Å) 厚度分辨率:±0.3% z 折射率測量范圍:2.65以下(一些情況可達3.35以下) z 操作波長:632.8nm,1310nm,1550nm以及其他可見光/近紅外光z 允許的基底材料:硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍寶石、鋰酸鈮等 z 軟件:windows version 操作軟件 z 輸出:計算機顯示和打印機輸出 |
| 薄膜類型和折射率 | 厚度和折射率一起測量 | 僅測量厚度 |
| 硅基上的二氧化硅(n=1.46) | 0.48-150mm | 0.20-0.48mm |
| 硅基上的光刻膠(n=1.63) | 0.42-150mm | 0.18-0.42mm |
| 二氧化硅上的光刻膠(n=1.63) | 0.70-150mm | 0.30-0.70mm |
| 硅基上的聚酰亞胺(n=1.72) | 0.38-150mm | 0.15-0.38mm |
| 二氧化硅上的聚酰亞胺(n=1.72) | 0.50-150mm | 0.16-0.50mm |
| 硅基上的氮氧化硅(n=1.80) | 0.35-150mm | 0.14-0.35mm |
| 二氧化硅上的氮氧化硅(n=1.80) | 0.45-150mm | 0.13-0.45mm |
| 硅基上的氮化硅(n=2.0) | 0.32-150mm | 0.12-0.32mm |
| 二氧化硅上的氮化硅(n=2.0) | 0.30-150mm | 0.15-0.30mm |
2010棱鏡耦合儀的主要特點：
z 中/厚膜膜厚折射率(尤其是光波導)的優質選擇
z 不需要預先知道膜的厚度
z 不需要預先知道膜的厚度
z 的氣壓耦合方式,不需要加耦合液
測試原理：
當光入射到棱鏡上,隨著旋轉臺的旋轉,入射角就隨之發生了變化,在某一個入射角度,光子就會經空氣狹縫進入薄膜傳輸出來,因此探測器得到的光子能量就會降低,形成凹陷,這叫做泄漏模。個模的位置決定了薄膜的折射率,而模間隔決定了薄膜的厚度。
棱鏡耦合儀和橢偏儀的區別
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