RUCK-SI硅片：硅窗口片的透過范圍是1.2µm-8µm，主要用于6µm以內的紅外窗口片和光學濾片的基片。由于該材料導熱性能好，，密度低，也是制作激光反射鏡的常用材料。主要用于pvd/cvd鍍膜做襯底用作XRD（x射線衍射分析），SEM（掃描電鏡），AFM(原子力顯微鏡），FTIR紅外，熒光光譜等分析測試基底；同步輻射實驗樣品載體；分子束外誕生長的基底；半導體光刻工藝等。
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