高溫蒸鍍儀，KT-Z1650CVD，石英＋不銹鋼腔體，觸摸屏控制，工藝儲存功能，自動電控擋板保護樣品
在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續(xù)的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)。基于這點，出現(xiàn)了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標準配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度優(yōu)于1x10-5 mbar。可進行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發(fā)開關使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進行。
標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節(jié)，非常容易適應各種樣品座。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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