OG-5000系列臭氧發生器是為滿足半導體工業中對高濃度潔凈臭氧的需求而設計的，可應用于化學氣相沉積、原子層沉積、氧化物生長和濕臺流程中。OG-5000系列設計緊湊，使用水冷系統，能夠簡便的整合進TAPI的臭氧系統控制器、臭氧泄露探測器、臭氧濃度監測器和臭氧破壞器中。該儀器經過驗證的技術使得它可廣泛應用于半導體流程中。
特征
- 高純度臭氧
- 高臭氧濃度
- 價格低
- 無耗材
- 設計緊湊，模塊化
- 經過驗證的技術
應用
化學氣相沉積 (CVD)
原子層沉積 (ALD)
氧化物生長
表面處理
灰化
顆粒清潔
光刻膠去除
其他
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