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昆山琦凡精密儀器有限公司
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高溫真空接觸角測量儀

產品二維碼
參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準
  • 產品型號:SDC-1100
  • 品牌:
  • 產品類別:物理特性分析儀器
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時間:2026-01-21 18:01:40
  • 瀏覽次數:4
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昆山琦凡精密儀器有限公司

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  • 經營模式:其他
  • 商鋪產品:320條
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產品簡介

高溫真空接觸角測量儀納米材料科學與工程已經成為世界性的研究熱點,在研究納米材料的表面改性時,往往要涉及潤濕接觸角這個概念。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴,固體表面上的固-液-氣三相交界點處,其氣-液界面和固-液界面兩切線把液相夾在其中時所成的角。

詳情介紹

          高溫真空接觸角測量儀

 

 高溫真空接觸角測量儀儀器介紹

本公司儀器采用現代化工藝制造,儀器采用優良的專用CMOS數字攝像機,配倍高分辨率變焦式顯微鏡和高亮度LED背景光源系統,搭配三維樣品臺,可進行工作臺上下、左右、前后等方向移動。實現微量進樣及上下、左右精密移動。同時還設計了伸縮桿結構工作臺,能適應在不同用戶材料厚度加大的場合。儀器框架可以根據式樣的大小適量調節,擴大了儀器的使用范圍。軟件搭配修正功能,測量多次后的結果可以同時保存在同一報告下,能讓用戶更好的對材料數據進行管控。該儀器設計美觀大方、操作簡單、符合用戶所需。適用于各種行業測定接觸角的用戶。

高溫真空接觸角測量儀


設備規格

設備主機

外形尺寸

1350mm(長)×450mm(寬)×630mm(高)

重量

80KG

整機調節

整機水平測試/調節

電源

電壓

220~240VAC

功率

6000W

頻率

50/60HZ

空間

加熱臺尺寸

99.99%氧化鋁材質加熱板,尺寸(長×寬):49mm×49mm ,45mm×45mm

試樣

40mm×40mm

樣品臺調節

水平調節

攝像系統

圖像

5000(H)×4000(V)

幀率

200fps(可升級更高幀數)

傳感器

SONY 1/1.8"

光譜

黑白/彩色

ROI

自定義

顯示線寬

自定義

曝光時間

自定義

電源

5 VDC USB 接口

傳輸

USB3 Vision

顯微鏡頭

焦距

480mm±5mm(變焦調節)

倍率

10倍

視角調節

傾斜-10~10°精度±0.1°;左右前后±25mm,高度±10mm;整體模塊實現快速切換移動位置,行程不低于150mm具備鎖止功能

分辨率標度

4~14um

采集系統調節

俯視/仰視/平視

光源

類型

單波長工業LED(冷光)

波長

460nm

光場

80mm×80mm

光點

150粒密集式

壽命

50000Hour

高溫系統

高溫爐

硅鉬棒加熱,恒溫區 120mm(長)


30段智能控溫,升溫速率≤10℃/min,控溫精度,1000℃以下,±0.1℃,1000℃以上,±1℃


常壓下 常溫至1100℃,真空下 常溫至1000℃
























石英管,長度 1000mm,管外徑 60mm,內徑50mm

雙溫控,測試加熱管內外溫度

雙冷卻裝置,5-35℃溫控,流量15L/min冷卻系統容量≥11L,制冷量1520W

不低于兩路保護氣 接入控制系統

同軸雙邊視窗 采用進口石英,易拆裝

真空泵

機械泵(真空度10Pa),分子泵(10-3Pa)可選配

真空范圍 機械泵(105~10-3Pa),分子泵(105~10-7Pa)

軟件

接觸角范圍

0~180°

分辨率

0.01°

溫控設置

設置30段升溫程序,啟停控制

接觸角測量方式

全自動、半自動、手動

分析方式

停滴法(2/3態)、座滴法、懸滴法

分析方法

靜態分析、潤濕動態分析、實時分析、雙邊分析

測試方法

圓法、橢圓/斜橢圓法、微分圓/微分橢圓法、Young-lapalace、寬高法、切線法、區間法

表面自由能

測試方法

Zisman、OWRK、WU、WU 2、Fowkes、Antonow、Berthelot、EOS、粘附功、浸濕功、鋪展系數

數據處理

輸出方式

自動生成,可導出/打印EXCEL、Word、譜圖等多種報告格式

選配標準附件

以下附件為標準選配品,也可根據自身測量要求給予量身制做

加熱管


99.99% 高純度氧化鋁材質加熱管及石英管

規格:長度 1000mm,管外徑 60mm,內徑50mm

加熱板


99.99% 高純度氧化鋁材質基板

尺寸:49mm×49mm ,45mm×45mm

高速相機


主用于高幀率測試要求的客戶

多組規格可選,幀率:4500幀/秒

Plasma等離子設備


用于提高材料表面活性,提升材料表面自由能,降低接觸角角度

可選配:大氣,真空,微波,寬幅等設備
























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