我們所提供的Ossila紫外臭氧清洗機系統是一種簡單，經濟，高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上，關上艙門，設置時間，按下運行按鈕，就可以在幾分鐘內，快速去除大多數無機基材上的有機污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧，將污染物分解成揮發性化合物。這些揮發性化合物從表面蒸發而跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
應用工藝：
?改善表面親水性
?表面清洗
?準備薄膜沉積
?表面處理
?紫外固化
?表面滅菌消毒
?去除表面單分子膜
?表面氧化
?清洗AFM / STM探針
?清洗光學元件
可清洗的基材示例：
?石英
?硅
?氧化硅
?氮化硅
?金
?鎳
?鋁
?砷化鎵
?礬土
?玻璃
?不銹鋼
可去除的污染物示例：
?光刻膠
?樹脂
?人體皮膚油脂
?清洗溶劑的殘留物
?塑料/硅片表面油漬
?助焊劑
產品特點：
?成本低；
?120x120mm樣品臺；
?處理樣品高度為14mm；
?抽屜式樣品臺，簡單方便；
?樣品臺自安全聯鎖，防止對人身傷害；
?LCD屏顯示“已用時間"和“剩余時間"；
?60分鐘計時器；
?高強度紫外線燈源；
?可控溫的樣品臺；
?樣品清洗無需溶劑；
?超凈表面。
下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響，以改善表面親水性。
水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上，經過紫外臭氧清洗處理前（左圖）和處理后（右圖）的效果對比。
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