產品概述
P-M是一款將真空式等離子體技術應用于各種不同領域的研究性操作平臺，除了實現常規清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實現等離子體鍍膜，等離子體合成反應，等離子體純化等功能。極大的拓展該設備的應用領域。
一、產品原理
P-M是一種非破壞性的表面處理設備，它是利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態下，以電能將氣體轉化為活性的氣體等離子體，該等離子體以一定能量作用于樣品表面，引起分子結構改變和表面形貌的納米級變化，從而達到對樣品表面進行改性和分解污染物的目的。
二、應用范圍：
等離子表面處理技術應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微觀流體學等領域。P-M小型等離子表面處理設備以體積小、成本低、操作簡便等特點廣泛應用于科研及小批量生產場合。
規格參數
| P-M參數(標準配置) | |||
| 外部尺寸 | 641*533*451mm |
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| 真空腔尺寸 | 直徑215mm*235mm | 不銹鋼腔體 | |
| 電極尺寸 | 120*125mm | 多控自適應平板電極 | |
| 等離子體發生器 | RF射頻發生器，頻率：13.56MHz | 自適應阻抗匹配電源 | |
| 功率 | 0-200W連續可調 | 精度1W | |
| 真空計 | 熱電偶真空計 0-1000mT |
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| 供氣 | 1路氣體 | 6mm國標連接件（軟管） | |
| 控制方式 | 4.3寸觸摸屏 |
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| 可 選 配 置 | |||
| ALC | 純鋁腔體 |
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| RF-300 | 等離子體發生器 | 頻率13.56MHz ，0-300W自動阻抗匹配電源 | |
| 可調電極 | 可調節電極間距 | 電極間距20-60mm可調，改變等離子體場濃度特性 | |
| CM裝置 | 沉積鍍膜模塊 | 用于改變表面特性： 1、沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性 2、沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性 3、沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果。 | |
| GP裝置 | 氣體純化裝置 |
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| PPU | 粉體處理裝置 | 用于處理微納米級別顆粒 | |
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| 氣體收集裝置 | 用于收集等離子體化學反應后的氣體 | |
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| 小型氧氣發生器 | 用于制備氧氣，可取代氧氣罐 | |
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| 氣體混合裝置 | 可以根據可以要求進行混氣設計 | |
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| 感應耦合模塊 | 感應耦合等離子體裝置 | |
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| 加熱電極模塊 | 電極可以加熱，室溫~200度可調。 | |
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| 光譜儀模塊 | 可以增加光譜儀的接口，檢測等離子體光譜變化 | |
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| 電極轉換模塊 | 可以自由變換電極設計，樣品可以放在射頻電極上，也可以放在地電極上。從而實現不同的處理效果。 | |
| 抽氣裝置 |
| 飛躍 VRD-8 二級油泵 尺寸：495x160x237mm 功率：1000W 抽氣速率：8m3/h | |
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