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GMP釜用干磨潔凈型機械密封--212機械密封帶集屑槽

結構特點：

? 聚四氟乙烯波紋管、單端面

? 無關軸的旋向

? 能適應有較大的徑向跳動的攪拌軸

? 帶收集套設置，可定期沖洗，沖洗收集套建議在清潔罐體前進行

參數范圍：

? 壓 力：真空～

? 溫 度：-20～120℃

? 線速度:≤3m/s

? 含固量：≤5%高分子懸浮顆粒

應用工況：

主要用在要求盡量避免污染釜內介質的衛生級反應釜上，也可用于有類似要求的化工、制藥、農藥、水處理等行業的其他反應釜中。

有多種標準的安裝尺寸可供選擇:

產品特點：

單端面、小彈簧、平衡型、任意旋向、聚四氟乙烯波紋管型、彈簧受四氟罩的保護。
適用于除*外的各種無懸浮顆粒的強腐蝕性氣體或液體，特別適用于搪瓷反應釜上。
適用介質：硫酸、碳酸、鹽酸、有機酸等各種強腐蝕性無懸浮顆粒介質。

適用介質：硫酸、碳酸、鹽酸、有機酸等各種強腐蝕性無懸浮顆粒介質。

產品優勢：

安裝方便，價格實惠

密封性能好，使用壽命長

冷卻、沖洗控制孔，提供潤滑、冷卻作用，并防止雜質堆積在密封環