日本 KST 株式會社成立于 1998 年,作為日本設計并加工半導體及光通信用硅晶圓以及膜產(chǎn)品的公司,KST 株式會社依賴的熱氧化技術可以為客戶提供超厚氧化膜的晶圓產(chǎn)品,這些產(chǎn)品能夠幫助客戶開發(fā)新型光通信及 MEMS 器件,并能夠極大的提升量產(chǎn)良率。

超厚熱氧化膜晶圓
日本KST擁有的厚熱氧化膜加工工藝,使熱氧化膜厚度快速超過20um。應用于 MEMS,半導體功率器件等方向。

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日本KST株式會社成立于1998年,作為日本設計并加工半導體及光通信用硅晶圓以及膜產(chǎn)品的公司,KST株式會社依賴的熱氧化技術可以為客戶提供超厚氧化膜的晶圓產(chǎn)品,這些產(chǎn)品能夠幫助客戶開發(fā)新型光通信及MEMS器件,并能夠極大的提升量產(chǎn)良率
日本 KST 株式會社成立于 1998 年,作為日本設計并加工半導體及光通信用硅晶圓以及膜產(chǎn)品的公司,KST 株式會社依賴的熱氧化技術可以為客戶提供超厚氧化膜的晶圓產(chǎn)品,這些產(chǎn)品能夠幫助客戶開發(fā)新型光通信及 MEMS 器件,并能夠極大的提升量產(chǎn)良率。

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日本KST擁有的厚熱氧化膜加工工藝,使熱氧化膜厚度快速超過20um。應用于 MEMS,半導體功率器件等方向。

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