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雙靶磁控濺射設備

1.設備性能：

該設備是一臺單腔室磁控濺射設備，可濺射各種金屬材料，真空腔室選用優質304不銹鋼加工 圓柱型尺寸350mm*300mm，前開門結構；頂部安裝有2支2英寸磁控靶（與基片臺距離可調），每只靶配單獨擋板；底部裝有樣品臺 可旋轉 可加熱，內配有照明系統 可照明 ；前面配有觀察窗；真空獲得系統安裝于真空室側面 包括600分子泵，4L機械泵，壓差閥，波紋管軟連接，電控系統一套包括相序保護，真空控制系統；真空檢測系統 真空計；

設備采用 進口檢漏儀檢漏 漏率超過5*10-10Pa/l/s；

極限真空可達5*10-5Pa；

抽工作真空7*10-4小于30分鐘