石墨爐有2200°C和3000°C兩種可選。石墨爐有50，80或者200l的不同容積，金屬爐只有60l。HTBL 60 MO/16-1Gzui高加熱溫度1600°C，配有鉬制隔熱板和加熱元件。金屬爐特別適合應用非常純凈或者高真空的氣氛。HTBl也非常方便裝/卸樣品，爐膛可以下降并露出,以方便樣品任意方向放入爐內(nèi)而無任何限制。另外樣品熱電偶可以放置于位置，也可以訂購氣氛盒。底座的移動是自動控制的，液動動力驅(qū)動，當爐膛移動到zui低位置時，可以把爐膛手動外推90°C。
氮氣，氬氣和氫氣可以單獨或者混用，也可以使用其他氣體。氣氛環(huán)境輕微過壓，分壓壓力在10到1000mbar之間，由氣體流量決定。不可使用空氣（氧氣）。
氣路系統(tǒng)由各種進氣和控制裝置組成，由真空泵進行真空操作，各個獨立溫度控制裝置實現(xiàn)高溫度均勻性。
底部裝載式高溫真空爐HTBL系列zui高工作溫度達2200°C，垂直加熱罐體積在50L-200L范圍。適合科研或小型生產(chǎn)用。
底部裝載式高溫真空爐HTBL優(yōu)點概述：
- 真空操作，雙層隔熱爐體，水冷系統(tǒng)
- 水冷系統(tǒng)配有流量監(jiān)控,流量調(diào)節(jié)和溫度顯示
- 獨立過熱保護溫度控制器和熱電偶
- 加樣準確方便
- zui大載樣量600 kg
- 配件種類齊全:
防塵處理用除塵器, 可燃氣體安全包裝,頂部和底部附加加熱元件增大均溫區(qū), 脫膠流水線配有火焰燃燒裝置, 置換保護氣氛用真空泵, 真空和高真空操作, ...
石墨爐
可以運用在真空/高真空或保護性氣體氮/氬氣環(huán)境下，也可以加載氫氣/一氧化碳反應性氣體，不能在空氣環(huán)境下使用。
應用：
熱解，硅化，燒結(jié)，脫膠
回火，釬焊，排氣，碳化，快速成型，合成，晶體生長，金屬注射成型（MIM）
鉬制和鎢制金屬爐
金屬爐沒有隔熱保溫纖維，可以達到很高純度的氣氛或高真空度要求。
應用：
釬焊，排氣，燒結(jié)，脫膠
回火，熱解，快速成型，合成，晶體生長，金屬注射成型（MIM）
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